栅极和漏极_栅极和漏极导通是击穿了吗

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台积电取得CN112018178B专利,实现在栅极和邻近的源极/漏极部件...多栅极半导体器件及其制造方法“授权公告号CN112018178B,申请日期为2019年11月。专利摘要显示,多栅极半导体器件及其形成方法包括在栅极和邻近的源极/漏极部件之间形成气隙。包括多个硅层的第一鳍元件设置在衬底上,第一栅极结构形成在第一鳍元件的沟道区上方。形成气隙小发猫。

...半导体结构及其制备方法专利,降低半导体结构的栅极诱导漏极泄漏电流用于解决半导体结构具有较大的栅极诱导漏极泄漏电流的技术问题,该方法包括提供具有第一沟槽的衬底;在第一沟槽的底部形成第一初始掺杂区;对第一沟槽进行氧化处理,在第一沟槽的侧壁形成第一氧化层,在第一沟槽的底部形成第二氧化层,第一氧化层的厚度大于第二氧化层的厚度。本后面会介绍。

...器件专利,实现鳍型有源区、沟道区、栅极线和源极/漏极区的集成设计金融界2023年12月11日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“集成电路器件“公开号CN117199071A,申请日期为2023年6月。专利摘要显示,一种集成电路(IC)器件包括:鳍型有源区;沟道区,在鳍型有源区上;栅极线,在鳍型有源区上围绕沟道区;源极/漏极区,在鳍型说完了。

...方法专利,实现在基底上方具有金属栅极结构、源极及漏极的场效晶体管形成在基底上方具有金属栅极结构、源极及漏极的场效晶体管,在隔离绝缘层上方设置于虚设金属栅极结构之间的第一前侧接点,在第一前侧接点上方形成第一配线层,从基底的背侧移除基底的一部分,以暴露隔离绝缘层的底部,从隔离绝缘层的底部在隔离绝缘层中形成第一开口,以暴露第一小发猫。

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...降低半导体结构中的栅极诱导漏极泄漏电流,提高半导体结构的可靠性沟道区中设置有反型掺杂区,反型掺杂区靠近第一掺杂区,其中,反型掺杂区中的掺杂类型与沟道区中掺杂类型不同;栅极,栅极环绕部分沟道区,且于有源柱的轴线所在的平面上,栅极的投影与反型掺杂区的投影部分重合,以降低半导体结构中的栅极诱导漏极泄漏电流,提高半导体结构的可靠性等会说。

京东方A获得发明专利授权:“薄膜晶体管、显示基板及显示装置”其可解决现有的薄膜晶体管漏电流较大的技术问题。本公开的薄膜晶体管包括:基底、位于基底上的有源层、栅极、源极和漏极;栅极具有一个或多个中空结构;栅极由中空结构划分为多个电连接的子栅极;每个子栅极在基底上的正投影均与有源层在基底上的正投影部分重叠。今年以来京后面会介绍。

台积电申请半导体结构及其形成方法专利,实施例涉及半导体结构及其...形成包括:形成包括第一栅极和第一源极/漏极区域的第一下部晶体管。方法也包括:形成包括第二栅极和第二源极/漏极区域的第一上部晶体管,第一上部晶体管与第一下部晶体管重叠。方法也包括:形成连接至第一导电部件和第二源极/漏极区域的导电通孔熔丝。本申请的实施例还涉及半导等会说。

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...、移位寄存器单元、栅极驱动电路和显示面板专利,提高源漏单元的效率栅极驱动电路和显示面板“公开号CN117642865A,申请日期为2022年6月。专利摘要显示,一种薄膜晶体管、移位寄存器单元、栅极驱动电路和显示面板,薄膜晶体管中,每个源极单元包括M个源极分支,源极分支和漏极分支均沿第一方向延伸且在与第一方向相交的第二方向上间隔排列;一还有呢?

京东方A获得发明专利授权:“光电薄膜晶体管、指纹识别电路及显示...本公开的光电薄膜晶体管包括:第一栅极、第一半导体层、源极、漏极、第二半导体层和偏置电极。其中,第一半导体层具有源极接触区、漏极接触区,以及位于源极接触区和漏极接触区之间沟道区,源极和漏极分别与第一半导体层的源极接触区和漏极接触区电连接。第一栅极与第一半导说完了。

...其制造方法专利,该半导体器件包括源极和漏极,分别具有第一掺杂类型该半导体器件包括源极和漏极,分别具有第一掺杂类型;栅极,位于所述源极与所述漏极之间;以及源极触点和漏极触点,所述源极触点与所述源极接触,所述漏极触点与所述漏极接触,所述源极触点和所述漏极触点中的每个触点包括半金属层以及被掺杂在所述半金属层中的掺杂物,所述掺杂物小发猫。

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